產(chǎn)品簡介: MPD-2系列為臺式雙盤金相試樣研磨拋光機,采用整體注塑設(shè)計,密封式進排水系統(tǒng);超大超深磨樣式,避免磨拋時冷卻水及磨拋液等外濺。適用于金屬、陶瓷、巖石、電子器件等各類樣件的精密研磨拋光。本機集粗磨、精密、拋光等功能與一體,更換砂紙方便快捷,具備多種磨拋盤選擇(200-300mm直徑)。滿足各類實驗的研磨拋光要求。 技術(shù)參數(shù): 型號 MPD-2W MPD-2A 機體形式 臺式雙盤 控制方式 雙盤單控 雙盤雙控 轉(zhuǎn)向選擇 雙轉(zhuǎn)向(正反轉(zhuǎn)) 雙轉(zhuǎn)向(正反轉(zhuǎn)) 磨盤轉(zhuǎn)速 無極調(diào)速100-1450轉(zhuǎn)/分鐘+高低定速 無極調(diào)速100-1450轉(zhuǎn)/分鐘+四檔定速 主機功率 550W 1100W(550WX2) 速度控制 交流變頻器控制 磨盤直徑 230mm (可選配200、250、300mm等規(guī)格) 出水噴灑 萬向可調(diào) 外形尺寸 850X750X450mm 電源 220V 220V 常用耗材: 金相砂紙 240/600/1000/1500#(其他規(guī)格400/2000#等)適于常規(guī)金屬類樣件的研磨 金剛石磨盤 240/600/1000/1500#(其他規(guī)格400/2000#等)適于超硬材料樣件的研磨 金剛石砂紙 粒度:45-0.3um(適合超硬材料的精密研磨及粗拋,如陶瓷、晶體等材料) 拋光布料 呢料、絲絨、羊毛等(對特殊材料也需要采用粗拋、精拋等多道拋光工藝) 金剛石拋光劑 粒度:40-0.5um(比較廣泛的拋光輔料,適合各類材料的拋光) 金剛石懸浮液 粒度:40-0.5um(比較廣泛的拋光輔料,更適合自動磨拋機使用) 氧化鋁拋光粉 粒度:30-0.5um (適合碳鋼類樣件的拋光) 磁性磨盤 更便于更換砂紙及拋光布料